化學(xué)機(jī)械拋光(ChemicalMechanicalPolishing，CMP)技術(shù)是提供全局平坦化的表面精加工技術(shù)，其中拋光液是CMP技術(shù)中的關(guān)鍵因素。隨著我國藍(lán)寶石襯底片產(chǎn)量的增大，
氧化鋁拋光液在藍(lán)寶石拋光中的應(yīng)用顯得更為重要，拋光液能一次完成藍(lán)寶石、碳化硅晶片的研磨和拋光，大大提高拋光效率。
氧化鋁拋光液是一種新的工藝，α-氧化鋁(剛玉)的硬度高，穩(wěn)定性好，納米級的氧化鋁適用于光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等的精密拋光，應(yīng)用相當(dāng)廣泛。拋光液主要由磨料、溶劑和添加劑組成，其種類、性質(zhì)、粒徑大小、顆粒分散度及穩(wěn)定性等與最終拋光效果密切相關(guān)。拋光液的優(yōu)點(diǎn)是拋光速率高，材料去除速率高，選擇性、分散性好，機(jī)械磨損性能較好，化學(xué)性質(zhì)活潑，并且后清洗過程處理較容易。
使用氧化鋁拋光液的時候應(yīng)該先將拋光液澆注到拋光布表面進(jìn)行拋光。由于氧化鋁比較容易沉淀，使用時需要搖勻才開始使用效果更佳。拋光液產(chǎn)品特點(diǎn)：
1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。
2.分散均勻，不團(tuán)聚，軟硬度適中，有效避免拋光過程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷缺陷。
3.運(yùn)用拋光過程中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。
4.分散性好、乳液均一，能在一定程度上提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。
